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真空离子镀膜设备概述

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2019-10-26 2:31:46 * 浏览: 5
(1)适用范围本标准适用于压力范围为10-4Pamdash,10-3Pa的真空离子镀覆设备(以下简称设备),包括以下类型:多弧离子镀覆,电弧放电式真空离子镀覆,空心阴极离子镀层(HCD),射频离子镀层(RFIP),直流放电二极管(DCIP),多阴极型,主动反应蒸发(ARE),增强型ARE,低压等离子体离子镀层(LFPD),电场蒸发离子镀,感应加热离子镀,团簇离子束镀等。(2)设备的主要技术参数设备的主要技术参数应符合表10-30的要求。 (3)结构要求1.设备中的真空管道和静态密封部件(法兰,密封圈等)的结构类型应符合GB / T6070的规定。 2真空测量仪应安装在真空和高真空管道上以及真空镀膜室上,以测量每个零件的真空度。如果发现电场干扰测量,则应在测量端口处安装电场屏蔽设备。 3如果设备中使用的主泵是扩散泵,则在泵的入口侧安装一个油蒸汽疏水阀。 4设备的涂层室应设有观察窗,观察窗应设有挡板装置。观察窗应能够观察沉积源和其他关键部件的工作条件。 5离子镀沉积源的设计应尽可能提高涂覆过程中的电离率,提高涂料的利用率,合理地匹配沉积源的功率,并合理安排沉积源的位置在真空腔体内。 6合理安排加热装置。一般的加热器结构布局应使待镀工件的温升均匀。 7工件支架应与真空腔室主体绝缘,并且工件支架的设计应使薄膜层均匀。 8离子镀设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源,离子轰击电源应具有抑制异常放电的装置,以保持稳定运行。 9,连接不同电位的真空室各部分的绝缘电阻值,符合GB / T11164-99的有关规定。 (4)试验方法极限压力,抽气时间和增压率的试验方法与“ 2”相同。真空镀膜设备一般条件的相应参数试验方法。