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真空电子束炉结构原理

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2019-06-04 13:05:28 * 浏览: 8
电子束熔化有三种形式:滴熔,熔池熔化和壳熔化,如图10-87所示。图10-87(a)显示了滴落熔化,可以垂直或水平进给。棒材需要制成电极形式,其要求严格并且比池消耗更多的功率。图10-87(b)显示了池熔化。不需要准备棒材,但材料损失稍大,铸锭表面粗糙,熔化速度慢,熔池浅。图10-87(c)是一种壳体冶炼,没有痰污染,可以铸成各种形状的零件。适用于高纯度金属和活性金属冶炼。电子束炉又称电子轰击炉,主要包括电子枪,炉体,主轴机构和结晶器,进料机构,真空系统,水冷系统,观察装置,电源等,如图10-88所示。 。所用的电子枪类型有轴向(皮尔斯),横向,远环和近环,其中大多数主要是轴向枪。它们的结构布局如图10-89,图10-90和图10-91所示。图10-92示出了具有三种进给方法的复合皮尔斯枪的示意图,其不仅从单枪发展到多枪组合熔炼方法,而且还适用于颗粒材料的熔炼。图10-93至图10-95是各种电子束炉结构的示意图,图10-96显示了电子束和熔池的布局。